درباره تزریق دیافراگم خلاء، پوشش بخار تبخیری

درباره Ion Plating

اطلاعات کلی

1. در پوشش ها با استفاده از بمباران ذرات پر انرژی یا همزمان یا همزمان از فیلم های رسوب برای اصلاح و کنترل ترکیب و خواص فیلم های رسوب استفاده می شود.

2. مواد رسوب ممکن است بوسیله تبخیر، اسپری شدن، تبخیر قوس یا دیگر منبع تبخیری تبخیر شود.

3. ذرات پر انرژی که برای بمباران استفاده می شوند، معمولا یون های گاز بی اثر یا واکنشی یا یون های مواد رسوب (یون های فیلم) هستند.

4. جوش یون را می توان در یک محیط پلاسما انجام داد که یون ها برای بمباران از پلاسما استخراج می شوند

مزایای پخت یون

1. انرژي قابل توجه توسط بمباران ذرات پر انرژي به سطح فيلم رسوب وارد شده است.

2. پوشش سطح را می توان در طول تبخیر خلاء و رسوب ناشی از اسپری به علت پراکندگی گاز و اثرات "تجزیه پراکنده" بهبود داد.

3. بمباران کنترل شده می تواند مورد استفاده برای تغییر خواص فیلم مانند چسبندگی، تراکم، استرس فیلم فیلم باقی مانده، خواص اپتیک.

خواص فیلم کمتر وابسته به "زاویه ای-بروز" شار از مواد سپرده نسبت به رسوبات اسپری و تبخیر خلاء به علت پراکندگی گاز، "sputtering / دوباره رسوب"، و "اثرات اتمی" peening است.

5. بمباران می تواند برای بهبود ترکیب شیمیایی مواد فیلم با "واکنش های شیمیایی افزایش یافته بمباران" و پرورش گونه های غیر واکنشی از سطح رو به رشد استفاده شود.

6. در برخی از برنامه های کاربردی، پلاسما را می توان برای فعال کردن گونه های واکنشی و ایجاد گونه های شیمیایی جدید که به آسانی جذب می شوند، به منظور کمک به فرایند رسوب واکنش (واکنش پذیری یون)

معایب جوش یونی

1. متغیرهای پردازش زیادی برای کنترل وجود دارد.

2. اغلب دشوار است که بمباران یون یکنواخت بر روی سطح سوبسترا به دست آید، که منجر به تغییرات فیلم مالکیت در سطح می شود.

3. گرمای سوبسترا می تواند بیش از حد باشد.

4. در بعضی شرایط ممکن است گاز بمباردای داخل فيلم رو به رشد باشد.

5. در برخی شرایط، استرس های فشرده باقی مانده فشرده ممکن است بوسیله بمباران ایجاد شود.

6. پوشش یون برای پوشش دادن پوشش های سخت از مواد ترکیبی، پوشش های فلزی پیوسته، پوشش های نوری با تراکم بالا و پوشش های سازگار در سطوح پیچیده استفاده می شود.

7. قطرات که ممکن است بر سطح پوشش تاثیر می گذارد.