تجهیزات پاشش مس / آلومینیوم / کربن ، سیستم تهویه پراکنده مگنترون با خلا بالا
سیستم رسوبی UHV Sputtering از کاتدهای لکنت به عنوان منبع رسوب PVD استفاده می کند. این نرم افزار همواره sputter MF و sputter DC را برای کاربردهای پوشش داخلی PVD داخلی استفاده می کرد. براساس اهداف مختلف و درخواست های سرعت رسوب پراکندگی ، رویال فناوری ، اسپاترهای استوانه ای و کاتدهای اسپاتر مسطح ، عمدتاً برای نرخ رسوب سریع برای برآوردن تقاضای پوشش تولیدی صنعتی را فراهم می کند.
سیستم تخلیه پراکنده با خلاء مگنترون با خلاء بالا برای آبکاری مس ، آلومونیوم ، پلاستیک ، مدارهای فلزی ساخته شده است. این می تواند فیلم نازک نانو را بر روی بسترها متراکم کند. به غیر از لکه دار شدن Ag ، می تواند اهداف نیکل ، طلا ، نقره ، آل ، کروم و فولاد ضدزنگ را نیز به خود اختصاص دهد.
این فیلم می تواند فیلم های یکنواختی بالایی را روی بسترهای مختلف قرار دهد: پانل پلاستیکی ، پانل کامپیوتر ، ورق آلومینیوم ، ورق های سرامیکی ، سرامیک Al2O3 ، AlN ، ورق های سیلیکون و غیره.
چیدمان تجهیزات پوشش اسپلیت RTSP1215
سری RTSP کاربردهای تجهیزات پوشش دهی Sputtering:
1. موجود در بسترهای: پلاستیک ، پلیمر ، شیشه و ورق سرامیک ، فولاد ضد زنگ ، ورق مس ، صفحه آلومینیومی و غیره
2. برای تولید فیلم نانو مانند: TiN، TiC، TiCN، Cr، CrC، CrN، Cu، Ag، Au، Ni، Al و غیره.
ویژگی های طراحی تجهیزات پوشش پوشش سری RT-SP:
1. طراحی قوی ، مناسب برای فضای اتاق محدود
2. دسترسی آسان برای نگهداری و تعمیر
3. سیستم پمپاژ سریع برای عملکرد بالا
4. محفظه الکتریکی استاندارد CE ، استاندارد UL نیز موجود است.
5- طرز کار دقیق ساختگی
6. اجرای پایدار برای تضمین تولید فیلم با کیفیت بالا.
منبع یون اصلی از شرکت Gencoa است ، خواص:
1- زمینه های مغناطیسی بهینه سازی شده برای تولید یک پرتو پلاسما به هم ریخته در فشارهای لکه دار استاندارد
2. تنظیم خودکار برای گاز برای حفظ جریان و ولتاژ ثابت - کنترل خودکار چند گازی
3. آند و کاتد گرافیتی برای محافظت از بستر در برابر آلودگی و تأمین مؤلفه های طولانی مدت
4- عایق الکتریکی استاندارد RF بر روی تمام منابع یون
5- خنک کننده مستقیم آند و کاتد - تعویض سریع قطعات
6. سوئیچینگ آسان قطعات کاتد برای تأمین چندین تله مغناطیسی برای کار با ولتاژ کمتر ، یا پرتوی متمرکز
7. منبع تغذیه تنظیم ولتاژ با بازخورد تنظیم گاز برای حفظ جریان یکسان در هر زمان
مشخصات فنی سیستم تهویه پاشش مگنترون با خلاء بالا
| مدل | RT1215-SP |
| ماده | فولاد ضد زنگ (S304) |
| اندازه اتاق | Φ1200 * 1500 میلی متر (H) |
| نوع اتاق | ساختار 1 درب ، عمودی |
| بسته بندی PUMP SINGLE | پمپ چرخشی VaneVacuum |
| پمپ خلاء Roots | |
| پمپ مولکولی تعلیق مغناطیسی | |
| پمپ وکیوم دوار دو طرفه | |
| فن آوری | MF Magnetron Sputtering ، منبع یون خطی |
| منبع تغذیه | منبع تغذیه لکنت + منبع تغذیه Bias + منبع یون |
| منبع رسوب | 4 جفت MF Sputtering Cathodes + منبع یون + اسپلیت DC |
| کنترل | صفحه نمایش لمسی PLC + |
| گاز | کنتورهای جرم گاز (Ar، N2، C2H2، O2) آرگون، نیتروژن و اتیون، اکسیژن |
| سیستم ایمنی | برای محافظت از اپراتورها و تجهیزات ، ایمنی بیشماری در هم تنیده است |
| آشپزی | آب خنک کننده |
| تمیز کردن | تخلیه درخشان / منبع یون |
| POWER MAX. | 120KW |
| مصرف برق نیرو | 70 کیلووات |
