PACVD و Magnetron Optics Films System Deposition System Polyhedron Structure Structure Structure Vacuum Coating Machine

The Multi950 machine is a customized multiple functions vacuum deposition system for R&D. دستگاه Multi950 یک سیستم تهویه خلاء چند توابع سفارشی برای تحقیق و توسعه است. With half year's discussion with Shanghai University's team leaded by Professor Chen, we finally confirmed the design and configurations to fulfill theirs R&D applications. با بحث و گفتگوهای نیم ساله با تیم دانشگاه شانگهای به سرپرستی استاد چن ، ما در نهایت طراحی و تنظیمات را برای تحقق برنامه های تحقیق و توسعه خود تأیید کردیم. This system is able to deposit transparent DLC film with PECVD process, hard coatings on tools, and optical film with sputtering cathode. این سیستم قادر به واریز فیلم شفاف DLC با فرآیند PECVD ، روکش های سخت روی ابزارها و فیلم نوری با کاتد لکه دار است. Based on this pilot machine design concept, we have developed 3 other coating systems after then: بر اساس این مفهوم طراحی ماشین خلبان ، ما 3 سیستم پوشش دیگر را نیز پس از آن توسعه داده ایم:

1. پوشش صفحه دوقطبی برای وسایل نقلیه الکتریکی سلولی سوخت - FCEV1213 ،
2. سرامیک مس مستقیم با سرامیک- DPC1215 ،
3. سیستم پراکنده انعطاف پذیر - RTSP1215.

These 4 models machine are all with Octal chamber, flexible and reliable performances are extensively used in various applications. این دستگاه 4 مدل همه با محفظه Octal است ، اجرای انعطاف پذیر و قابل اعتماد در برنامه های مختلف بسیار مورد استفاده قرار می گیرد. It satisfy the coating processes require multi different metal layers: Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Sn, SS and many other non-feeromagnetic metals; این فرایندهای پوشش را نیاز به لایه های فلزی مختلفی دارد: Al، Cr، Cu، Au، Ag، Ni، Sn، SS و بسیاری از فلزات غیرفرومغناطیسی دیگر.
به علاوه واحد منبع یون ، چسبندگی فیلم را بر روی مواد بسترهای مختلف با عملکرد اچ پلاسما آن و فرآیند PECVD به رسمیت بخشیدن به برخی لایه های مبتنی بر کربن تقویت می کند.

The Multi950 is the milestone of advanced design coating systems for Royal Tech. Multi950 نقطه عطف سیستم های پوشش طراحی پیشرفته برای Royal Tech است. Here, we grateful thanks Shanghai University students and especially Process Yigang Chen, his creative and selfless dedication are unlimited values and inspired our team. در اینجا ، ما از دانشجویان دانشگاه شانگهای و به ویژه پردازش Yigang Chen تشکر می کنیم ، فداکاری و خلاقیت او از ارزش های نامحدودی برخوردار است و الهام بخش تیم ما است.

در سال 2018 ، ما همکاری پروژه دیگری با Pressor Chen داشتیم ، رسوب مواد C-60 توسط
Inductive thermal evaporation method. روش تبخیر حرارتی القایی. We heartfully thank Mr. Yimou Yang and Professor Chen's leading and instruction on every innovative project. ما با صمیمانه از هدایت و راهنمایی آقای ییمو یانگ و استاد چن در مورد هر پروژه ابتکاری تشکر می کنیم.

مزایای:

ردپای فشرده ،
طراحی استاندارد ماژولار ،
قابل انعطاف،
قابل اعتماد،
اتاق اکتال ،
ساختار دو درب برای دسترسی خوب ،
فرآیندهای PVD + PECVD.
 

ویژگی های طراحی:

1. انعطاف پذیری: قوسها و کاتد های لکه دار ، فلنجهای نصب منبع یون برای مبادله انعطاف پذیر استاندارد هستند.
2. Versatility: can deposit variety of base metals and alloys; 2. تطبیق پذیری: می تواند انواع فلزات پایه و آلیاژهای مختلف را واریز کند. optical coatings, hard coatings, soft coatings, compound films and solid lubricating films on the metallic and non-metallic materials substrates. روکشهای نوری ، روکشهای سخت ، روکشهای نرم ، فیلمهای ترکیبی و فیلمهای روان کننده جامد روی بسترهای فلزی و غیر فلزی.
3. طراحی مستقیم رو به جلو: ساختار دو درب ، جلو و عقب باز برای نگهداری آسان.

اطلاعات تکنیکی:

لطفا برای مشخصات بیشتر با ما تماس بگیرید ، رویال فناوری مفتخر است که راه حلهای پوشش کامل را به شما ارائه دهد.