دستگاه پوشش خلاء رسوب لایه نازک CsI / تجهیزات پوشش حرارتی تبخیر لایه نازک سیزیم یدید

عملکرد پوشش های تبخیر حرارتی لایه نازک سزیم یدید

وضوح فضایی فوق العاده بالا از تصاویر.

پاسخ سریع برای تصاویر واضح تر؛

نواحی تصویر لبه به لبه کلاس.

لایه های جاذب نوری یا لایه های بازتابنده؛

دوز کم اشعه ایکس بیمار؛

مناسب برای دستگاه های CMOS و CCD مخصوصا در صنایع پزشکی.

دستگاه پوشش خلاء رسوب لایه نازک CsIبرای دستگاه های CMOS CCD یک تکنیک پیشرفته برای تبخیر CsI روی صفحه نمایش برای ارائه کیفیت بالا است.

بهره وری:
مدل CsI-950A+ با ساختار قفسه 2 چرخشی بر اساس مدل Generation -one CsI-950 می باشد.
ظرفیت دو برابر برای حداکثر.اندازه بستر: 500x400mm.

قابلیت اطمینان:
عملکرد 24/7 روز بدون توقف؛
کنترل کننده ضخامت فیلم Inficon برای نظارت بر ضخامت فیلم به صورت خطی.
دقت کنترل دما: ± 1 ℃، تنظیم چند مرحله ای، ضبط و کنترل خودکار داده های دما
قفسه های چرخشی مجهز به سرو موتور برای دقت و پایداری بالا.

تکرارپذیری و تکرارپذیری:
از طریق سیستم کنترل پارامتر با دقت بالا،
نرم افزار و برنامه کنترل خودکار فرآیند،
عملکرد کاربر پسند

ایمنی:

پمپ خلاء بالا: پمپ مولکولی تعلیق مغناطیسی، با دستگاه دمنده گاز نیتروژن برای جلوگیری از قرار گرفتن مواد خطرناک در هوا.
تمام الکترودها مجهز به آستین محافظ ایمنی هستند

سیستم رسوب خلاء بالا CsI منحصراً برای متالیزاسیون CsI بر روی صفحه های سوسوزن در محیط خلاء بسیار بالا طراحی شده است.سوسوزن های CsI با ضخامت 200 تا 600 میکرومتر با عملکرد یکنواختی ضخامت و روشنایی بالا.

خصوصیات رسوب یدید سزیم (CsI):
وضوح فضایی فوق العاده بالا تصویربرداری.
پاسخ سریع برای تصویربرداری واضح تر؛
نواحی تصویر لبه به لبه کلاس.
لایه های جذب نوری یا لایه های بازتابنده؛
دوز کم اشعه ایکس بیمار؛

کاربرد: برای بررسی و بازرسی امنیتی، آموزش فیزیک انرژی بالا، تشخیص تشعشعات هسته ای و تصویربرداری پزشکی: معاینه قفسه سینه، ماموگرافی، دهان و دندان و پانوراما.
بسترهای مورد استفاده: شیشه TFT، صفحه فیبر نوری، صفحه آمورف کربن، صفحه آلومینیومی

لطفا برای مشخصات بیشتر با ما تماس بگیرید، رویال فناوری مفتخر است که راه حل های پوشش کامل را به شما ارائه دهد.