پوشش‌های سخت PVD روی ابزار، تجهیزات PVD پوشش سخت فایل‌های فولادی الماس، دستگاه پوشش طلا قلع فایل فولادی
پوشش های کاربردی PVD TiN و PVD CrN:
1. قلع (نیترید تیتانیوم) سختی: 2000~2300 HV، ضخامت: 2~6 میکرون
2. CrN (کروم نیترید) سختی: 1700~2100 HV، ضخامت: 2~10 میکرون
سختی بالا، ضریب اصطکاک کم، زمان استفاده طولانی تر (بیش از 3 تا 5 بار)
پوشش های سخت روی ابزار
پوشش های سخت که توسط فرآیندهای رسوب بخار فیزیکی واکنشی (PVD) بر اساس فناوری پلاسما تشکیل می شوند، به طور گسترده در صنایع ابزار استفاده می شوند.
رایج‌ترین منابع تبخیر برای آبکاری یونی پوشش‌های سخت، منابع کندوپاش با مگنترون نامتعادل و منابع تبخیر قوس کاتدی هستند.بمباران در طول رسوب معمولاً با اعمال یک بایاس منفی (200- تا 300- ولت) به بستر و شتاب دادن یون های مثبت به سطح از پلاسما حاصل می شود.نسبت بالای یون‌های بمباران به اتم‌های رسوب‌دهنده برای متراکم کردن مواد رسوب‌دهنده مهم است.در منبع کندوپاش با مگنترون نامتعادل، تعداد کمی از اتم های پراکنده یونیزه می شوند.اما در منابع قوس کاتدی، درصد بالایی از اتم های تبخیر شده یونیزه می شوند.از آنجایی که این «یون‌های فیلم» دارای جرم بالاتری نسبت به یون‌های گاز هستند، بهتر می‌توانند سطوح را پاشیده و لایه‌ها را با «نفک کردن اتمی» متراکم کنند.
ضخامت پوشش ابزارهای صنعتی معمولاً 1.5 تا 4 میکرون است.
مشخصات RTAC-1214:
| مدل | RTAC-1214 | ||
| مواد | فولاد ضد زنگ (S304) | ||
| اندازه اتاق | Φ1200*1400mm (H) | ||
| نوع اتاقک | سیلندر عمودی تک درب | ||
| پکیج تک پمپ | پمپ خلاء پیستونی دوار | ||
| پمپ وکیوم ریشه | |||
| پمپ ریشه | |||
| فن آوری | تبخیر قوس کاتدی، آبکاری یونی | ||
| منبع تغذیه | منبع تغذیه منابع قوس الکتریکی + منبع تغذیه بایاس | ||
| منبع رسوب | 14 منبع قوس کاتدی | ||
| کنترل | PLC + صفحه نمایش لمسی | ||
| گاز | جریان سنج جرم گاز | ||
| سیستم ایمنی | اینترلاک های ایمنی متعدد برای محافظت از اپراتورها و تجهیزات | ||
| خنک کننده | آب خنک کننده | ||
| تمیز کردن | تخلیه قوس | ||
| حداکثر توان | 75 کیلو وات | ||
|
توان متوسط مصرف |
35 کیلو وات | ||
4. نمونه های پوشش دهی محصول توسط پوشش خلاء قوس
Diamond Files پوشش TiN و CrN
لطفا برای مشخصات بیشتر با ما تماس بگیرید، رویال فناوری مفتخر است که راه حل های پوشش کامل را به شما ارائه دهد.
