کندوپاش مگنترون به طور گسترده برای رسوب فلزات نسوز مانند تانتالیوم، تیتانیوم، تنگستن استفاده می شود.،نیوبیم، که به دمای بسیار بالایی برای رسوب نیاز داردو فلزات گرانبها: طلا و نقره و همچنین برای رسوب فلزات با نقطه ذوب پایین تر مانند مس، آلومینیوم، نیکل، کروم و غیره استفاده می شود.
تانتالوم بیشترین استفاده را در الکترونیک داردصنعتبه دلیل مقاومت خوب در برابر فرسایش به عنوان یک پوشش محافظ.
کاربردهای لایه نازک تانتالیوم پاشیده شده:
1. صنعت میکروالکترونیک به عنوان فیلم ها را می توان به صورت واکنشی پراکنده کرد و بنابراین مقاومت و ضریب مقاومت دمایی را می توان کنترل کرد.
مزایای فنی
سیستم استاندارد رسوب کندوپاش تانتالیوم Royal Technology:
| تنظیمات اصلی | |
| مدل | RTAS1000 |
| فن آوری |
کندوپاش مگنترون DC پالسی آبکاری قوس کاتدی (برای گزینه، تعیین شده توسط فرآیند پوشش) |
| مواد محفظه | فولاد ضد زنگ (S304) |
| اندازه اتاق | Φ1000*1000mm (H) |
| نوع اتاقک | شکل D، محفظه استوانه ای |
| سیستم قفسه چرخشی و جیگ | رانندگی ماهواره ای یا سیستم رانندگی مرکزی |
| منابع تغذیه |
منبع تغذیه DC Sputtering: 2 ~ 4 مجموعه منبع یون: 1 مجموعه |
| مواد رسوبی | Ta، Ti/Cr/TiAl، Au، Ag، Cu و غیره |
| منبع رسوب | کاتدهای کندوپاش مسطح + کاتدهای قوس دایره ای |
| کنترل | PLC (کنترل کننده منطقی قابل برنامه ریزی) + IPC (مدل های عملکرد دستی + خودکار + نیمه خودکار) |
| سیستم پمپ | پمپ پره دوار: SV300B – 1 مجموعه (Leybold) |
| پمپ ریشه: WAU1001 – 1 مجموعه (Leybold) | |
| پمپ نگهدارنده: D60C - 1 مجموعه (Leybold) | |
| پمپ مولکولی معلق مغناطیسی: MAG2200 - 2 سست (لیبولد) |
|
| کنترل کننده جریان جرم گاز | 2 کانال: Ar و N2 |
| گیج خلاء | اینفیکون یا لیبولد |
| سیستم ایمنی | اینترلاک های ایمنی متعدد برای محافظت از اپراتورها و تجهیزات |
| گرمایش | بخاری: 20 کیلو واتحداکثردما: 450 ℃ |
| خنک کننده | چیلر صنعتی (آب سرد) |
| حداکثر توان | 100 کیلو وات (تقریبا) |
| میانگین مصرف برق | 45 کیلو وات (تقریبا) |
| وزن ناخالص | T (تقریبا) |
| چاپ پا | (L*W*H) 4000*4000 *3600 میلی‌متر |
| قدرت الکتریکی |
AC 380 ولت / 3 فاز / 50 هرتز / 5 خط |
داخل سایت:
زمان ساخت: 2018
مکان: چین
لطفا برای برنامه ها و مشخصات بیشتر با ما تماس بگیرید.
