فناوری کندوپاش مگنترون چیست؟
کندوپاش مگنترون شکل دیگری از فناوری پوشش PVD است.

پوشش پلاسما
کندوپاش مگنترون یک فرآیند پوشش پلاسما است که در آن مواد کندوپاش به دلیل بمباران یون‌ها به سطح هدف به بیرون پرتاب می‌شوند.محفظه خلاء دستگاه پوشش PVD با یک گاز بی اثر مانند آرگون پر شده است.با اعمال یک ولتاژ بالا، تخلیه درخششی ایجاد می شود که در نتیجه شتاب یون ها به سطح هدف و پوشش پلاسما ایجاد می شود.یون‌های آرگون، مواد کندوپاش را از سطح هدف بیرون می‌کنند (پرتاب کردن)، و در نتیجه یک لایه پوششی پراکنده روی محصولات جلوی هدف ایجاد می‌شود.

کندوپاش واکنشی
اغلب از گاز اضافی مانند نیتروژن یا استیلن استفاده می شود که با مواد خارج شده واکنش نشان می دهد (کفش واکنشی).طیف گسترده ای از پوشش های پراکنده با این تکنیک پوشش PVD قابل دستیابی است.فناوری کندوپاش مغناطیسی به دلیل ماهیت صافی که دارد برای پوشش دهی (مثلاً نیتریدهای Ti، Cr، Zr و کربن) بسیار سودمند است.همین مزیت باعث می شود که کندوپاش مگنترون به طور گسترده ای برای پوشش تریبولوژیکی در بازارهای خودرو استفاده شود (مانند CrN، Cr2N و ترکیبات مختلف با پوشش DLC - پوشش الماس مانند کربن).

میدانهای مغناطیسی
کندوپاش مگنترون تا حدودی با تکنولوژی کندوپاش عمومی متفاوت است.تفاوت این است که فناوری کندوپاش مگنترون از میدان های مغناطیسی برای نگه داشتن پلاسما در مقابل هدف استفاده می کند و بمباران یون ها را تشدید می کند.پلاسمای بسیار متراکم نتیجه این فناوری پوشش PVD است.

فناوری کندوپاش مگنترون با موارد زیر مشخص می شود:

• هدفی که با آب خنک می شود، بنابراین گرمای تشعشعی کمی تولید می شود
• تقریباً هر ماده فلزی هدف را می توان بدون تجزیه پراکنده کرد
• مواد غیر رسانا را می توان با استفاده از فرکانس رادیویی (RF) پراکنده کرد.
  یا توان فرکانس متوسط ​​(MF).
• پوشش های اکسیدی را می توان پراکنده کرد (کندوپاش واکنشی)
• یکنواختی لایه عالی
• پوشش های پراکنده بسیار صاف (بدون قطرات)
• کاتدها (تا 2 متر طول) را می توان در هر موقعیتی قرار داد، بنابراین در ارتفاع بالا
  انعطاف پذیری طراحی تجهیزات کندوپاش
•