| کاربرد | صنعت الکترونیک و سایر صنایع به عملکرد محافظ مغناطیسی برقی نیاز دارند |
|---|---|
| مواد پوشش | مس و استیل ضد زنگ ، آلومینیوم ، کروم ، تیتانیوم و غیره |
| فناوری PVD | تبخیر رشته تنگستن ، DC Sputtering Magnetron |
| نام تجهیزات | PVD کارخانه پوشش دهی Sputtering ، دستگاه پوشش خلاء PVD ، دستگاه جاروبرقی خلا ، متالیزر خلاء ، رسوب |
| محل کارخانه | شهر شانگهای، چین |
| فناوری خلاء | تبخیر قوس ، آبکاری یون قوس |
|---|---|
| منابع سپرده گذاری | کدهای رمز |
| پوشش فیلم ها | آبکاری فیلم فلزی ، تیتانیوم نیترید ، کاربید تیتانیوم ، زیرکونیوم نیترید ، کروم نیترید ، TiAlN ، CrC |
| محل کارخانه | شهر شانگهای، چین |
| محل کارخانه | شهر شانگهای، چین |
| کاربرد | روشنایی اتومبیل ، پوشش بازتابنده های خودرو ، قسمت BMC PC + ABS ، ABS ، چراغ های اتومبیل آلیاژ آلومین |
|---|---|
| فن آوری | تبخیر حرارتی آلومینیوم ، لایه محافظ روغن سیلیسیم HMDSO ، فرآیند PECVD |
| مزایای | فلزاسیون PVD و HMDSO (فرآیند PECVD) که در محفظه دستگاه PVD تکمیل شده است ، از آلودگی جلوگیری می کند |
| محل کارخانه | شهر شانگهای، چین |
| خدمات در سراسر جهان | Poland - Europe; لهستان - اروپا؛ Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India, |
| فن آوری | فرکانس میانی مغناطیسی در حال پاشیدن |
|---|---|
| پیش تمیز کردن | پیش تصفیه پلاسما منبع خطی آند یون |
| MF Sputtering Katodes | 2 مجموعه |
| پیکربندی اتاق | محفظه عمودی و استوانه ای ، درب باز شونده جلو |
| محل کارخانه | شهر شانگهای، چین |
| منابع سپرده گذاری | قوس کاتدیک قوس + مگنترون MF Sputtering |
|---|---|
| فیلم های سپرده گذاری | TiC TiAlC، CrC، CrCN، DLC، Graphite sputtering |
| برنامه های کاربردی | پوشش فیلم سیاه بر روی قطعات فلزی دیده بان |
| ویژگی های فیلم | مقاومت در برابر سایش ، چسبندگی شدید ، رنگهای پوشش تزئینی |
| محل کارخانه | شهر شانگهای، چین |
| نام | دستگاه رسوب گذاری خلاء CsI |
|---|---|
| مواد رسوبی | Cs I، رسوب در خلاء |
| برنامه های کاربردی | صفحه نمایش اشعه ایکس پزشکی، تصویربرداری از دندان، بازرسی امنیتی، فیزیک انرژی بالا |
| محل کارخانه | شهر شانگهای، چین |
| خدمات در سراسر جهان | Poland - Europe; لهستان - اروپا؛ Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India, |
| منابع سپرده گذاری | هدایت کاتدیک قوس + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| روش | PVD ، متعادل / نامتعادل کننده کاتدن پراکنده Magentron |
| برنامه های کاربردی | اتصال دهنده های فلزی ، پیچ ها ، فلزات دوربین |
| ویژگی های فیلم | مقاومت در برابر سایش ، چسبندگی شدید ، رنگهای پوشش تزئینی |
| محل کارخانه | شهر شانگهای، چین |
| کاربرد | تحقیق و توسعه ، لابراتوار |
|---|---|
| منبع تبخیر | کاتد لکه دار ، تفنگ شکاری ، دی سی. RF. مدل های MF |
| مواد انباشت | Si ، Ti ، آلومینیوم ، طلا ، نقره ، کروم ، مس ، ایندیوم ، ایندیم اکسید قلع ، نیکل |
| روکش ها | پوشش های نوری ، پوشش های سخت ، ITO ، DLC و غیره |
| برنامه های کاربردی | نیمه هادی ، خورشیدی ، سلول سوختی ، سازمان های علمی ، دانشگاه ها ، سیستم تحقیقات هوافضا ، بخش فیزیک پ |
| تکنولوژی پوشش | DC & MF Magnetron Sputtering، تبخیر رشته ولفستم |
|---|---|
| ویژگی های تجهیزات | ساختار قوی، طراحی ردپای فشرده، راندمان بالا و کنترل عملیات دقیق |
| کاربرد پوشش | کاغذ الکترونیکی، فیلم ITO، مدارهای انعطاف پذیر، فتوولتائیک، نوارهای پزشکی و RFID. |
| کنترل عملیات | کنترل PLC و IPC بصری |
| خدمات و آموزش | موجود، از مهندس و تکنسین های ایالات متحده |
| مدل | سیستم پوشش دسته ای |
|---|---|
| فیلم های پوششی | چسبندگی قوی، اصطکاک ضریب کم، مقاومت در برابر خوردگی، چگالی و یکنواختی بالا. |
| مزایای | ظرفیت زیاد، طراحی هوشمند، زمان کار بالا و بازده بالا، هزینه مالکیت کم، زمان چرخه کوتاه |
| طرح | محفظه هشتی، 4 کاتد کندوپاش، 1 منبع یون خطی |
| محل کارخانه | شهر شانگهای، چین |
