مزایا:
PVD sputtering + Ion Plating به ترکیبی از مزایایی مانند سایر موارد دیگر نمی تواند:
1. از نظر اقتصادی کارآمد ، تولید باریک ترین ، یکنواخت ترین فیلم های پوشش.
2. یک فرآیند پوشش خشک در دمای پایین در یک محفظه خلاء.
3. تطبیق پذیری بالایی را ارائه می دهد و می تواند برای رسوب مواد رسانا یا غیر رسانا بر روی هر نوع بسترها مانند: فلزات ، سرامیکها ، مواد پلاستیکی مورد استفاده قرار گیرد.
4- پوشش چند لایه برای تولید ساده است. 5. سرعت رسوب سریع و اتمام سطح با کیفیت بالا.
فناوری پوشش:
مقطع مسطح مغناطیسی مسطح کاتدیک (کاتدیک اسپلیت استوانه ای) ، باعث می شود رنگهای پوشش بیشتر بازتابی داشته باشند ، سطح پوشش بسیار نرمتر و بدون سوراخ و لکه و سوزن است.
محصولات پوشش با کیفیت بالا ، تقاضای پیگیری های سطح بالایی را برآورده می کند.
مشخصات استاندارد RTAC-SP
| مدل | اندازه (میلی متر) | تعداد میله های سیاره ای | منابع قوس کاتدی | لکه های کاتدی | منبع یون | منبع تغذیه بایاس (kVA) |
| RTAC950-SP | 950xH1350 2-درب | 3 | 8 | 4 مسطح | آند خطی | 1 * 36 |
| RTAC1213-SP | 1250xH1350 2-درب | 48 | 8 | 4 مسطح | آند خطی | 1 * 30 ، AE |
| RTAC1250-SP | 1250xH1250 | 6،8،12،16 | 8 | سیلندر 4 ~ 8 | بستگی به فرایند پوشش و محصول دارد | 1 * 36 |
| RTAC1008-SP | 1000xH800 | 3 | 6 | 2 سیلندر | 1 * 24 | |
| RTAC1616-SP | 1600xH1600 | 6 * 6 | 9 | 2 سیلندر یا مسطح | 1 * 48 | |
| RTAC1618-SP | 1600x1800 | 6،8،10 | 18 | 4 سیلندر | 1 * 48 |
فیلم های رسوبی TiN روی قطعات فلزی
