سیستم متالیزاسیون با خلاء بالا / سیستم رسوب دهی خلاء تبخیر Cs I
عملکرد پوشش های خلاء PVD
وضوح فضایی فوق العاده بالا از تصاویر.
پاسخ سریع برای تصاویر واضح تر؛
نواحی تصویر لبه به لبه کلاس.
لایه های جاذب نوری یا لایه های بازتابنده؛
دوز کم اشعه ایکس بیمار؛
مناسب برای دستگاه های CCD و CMOS به ویژه در صنایع پزشکی.
دستگاه پوشش خلاء PVDبه طور انحصاری برای دستگاه های پزشکی برای گرفتن تصویربرداری با اشعه ایکس بالا استفاده می شود.ویژگی های اصلی این دستگاه:
1. فشار خلاء نهایی فوق العاده بالا: تا 9.0 * 10-5 Pa.
2. گرم کردن سریع دستگاه ها برای چسبندگی خوب.
3. انتخاب پمپ خلاء بالا و سیستم پمپاژ مناسب برای جلوگیری از مواد خطرناک در معرض هوا.
4. سیستم پوشش قوی، فشرده و جامد.
5. پایداری بالا، کار 960 ساعت بدون توقف.
6. دستگاه Inficon Film Thickness Controller برای نظارت بر ضخامت فیلم به صورت خطی.
7. طراحی و انتخاب انحصاری بوته برای رسوب CsI.
8. پوشش بستر، حداکثر.اندازه: 500 * 500 میلی متر
رسوب لایه نازک CsI برای دستگاه های تصویربرداری اشعه ایکس یک تکنیک پیشرفته برای تبخیر CsI بر روی صفحه نمایش برای ارائه کیفیت بالای تصویربرداری است.با عملکرد وضوح بالا، همچنین به طور گسترده در بررسی و بازرسی امنیت، موضوع فیزیک انرژی بالا، فیزیک مناطق انرژی هسته ای و غیره استفاده می شود.
مزایای از ما
ماشین آلات تولید پیشرفته (فرزکاری، جوشکاری، برش، آزمایش نشت خلاء) همراه با روش های استاندارد تولید و آزمایش های دقیق، فناوری رویال را قادر می سازد تا سیستم های پوشش با کیفیت بالا، قابل اعتماد و کم هزینه تولید کند.
کیفیت، خدمات و تحویل به موقع اصول اصلی تجارت رویال فناوری است.استراتژی برون سپاری آشکار اجزای ساده به تولیدکنندگان حرفه ای به ما امکان می دهد توجه را به بخش ها و اجزای کلیدی تحقیق و توسعه، تولید متمرکز کنیم.
سیاست های دقیق کنترل کیفیت و انتخاب دقیق تامین کنندگان واجد شرایط به مشتریان رویال فناوری اطمینان می دهد که پیشرفته ترین تجهیزات با کیفیت بالا را با مقرون به صرفه ترین هزینه دریافت می کنند.
لطفا برای مشخصات بیشتر با ما تماس بگیرید، رویال فناوری مفتخر است که راه حل های پوشش کامل را به شما ارائه دهد.
