DPC پوشش مستقیم مس بر روی تراشه های سرامیکی- RTSP1200-DPC

نقره PVD Direct Plating Silver بر روی فیلترهای دی الکتریک سرامیکی یک فناوری پوشش پیشرفته است که با ایستگاه های پایه 5G و دیگر نیمه هادی ها برای صنایع الکترونیکی استفاده می شود.یکی از کاربردهای معمول زیربنای تابش سرامیکی است.- سپرده گذاری فیلم رسانای نقره / مس بر روی اکسید آلومینیوم (Al2O3) ، زیربناهای AlN با تکنولوژی اسپتر کردن خلاء PVDاز همه مهم تر، یک مزیت بزرگ در مقایسه با روش های تولید سنتی دارد.: DBC LTCC HTCC که هزینه های تولید بسیار پایین تری دارد. Royal Technology’s team collaborated with our customer to develop the PVD Silver Plating process successfully applying  with  sputtering technology which can replace conventional liquid silver brushing process.

کاربردهای معمول

• HBLED
• زیرپوش برای سلول های متمرکز خورشیدی
• بسته بندی نیمه هادی قدرت شامل کنترل موتور خودرو
• الکترونیک مدیریت برق خودروهای هیبریدی و الکتریکی
• بسته های RF
• دستگاه های مایکروویو
• فیلترهای دی الکتریک سرامیکی برایایستگاه پایه 5G

فقط برای نامگذاری چند مورد، برای درخواست های بیشتر، لطفا با Royal Tech تماس بگیرید.

مزیت های فنی

ظرفیت بزرگ
طراحی ماژول های انعطاف پذیر
تولید دقیق

سیستم اسپترینگ دسته RTAS1215 نسخه ارتقا یافته است، جدیدترین سیستم دارای چندین مزیت است:

فرآیند کارآمدتر
1. پوشش دو طرفه توسط طراحی فلش گردش در دسترس است
2. تا 8 فلنج کاتود مسطح استاندارد برای منابع متعدد
3ظرفیت بزرگ تا 2.2 m2 تراشه های سرامیکی در هر چرخه
4. کاملا اتوماتيك ، PLC + صفحه لمسي ، يك سيستم کنترل لمسي

کاهش هزینه تولید
1مجهز به 2 مجموعه پمپ مولکولی معلق مغناطیسی، زمان شروع سریع، نگهداری رایگان
2حداکثر قدرت گرمایش
3شکل هشت گوشه ای از اتاق برای استفاده از فضای بهینه، تا 8 منبع قوس و 4 کاتد اسپوتر برای رسوب سریع پوشش

مشخصات فنی

مدل: RTSP1200-DPC

ارتفاع اتاق (ملی متر): 1500

قطر اتاق (ملی متر): φ1200

فلنج نصب کاتود های اسپوتر: 4

فلنج نصب منبع یون: 1

فلنج نصب کاتود قوس: 8

ماهواره ها (ملی متر): 16 × Φ150

قدرت تعصب پالس (KW): 36

قدرت اسپوتینگ (KW): DC36 + MF36

قدرت قوس ((KW): 8 x 5

قدرت منبع یون (KW): 5

قدرت گرمایش (KW): 36

ارتفاع پوشش موثر (ملی متر): 1020

پمپ مولکولی معلق مغناطیسی: 2 x 3300 L/S

پمپ ریشه: 1 × 1000m3/h

پمپ فان چرخشی: 1 × 300m3/h

پمپ نگهدارنده: 1 x 60m3/h

ظرفیت: 2.2 متر مربع

مساحت نصب (L x W x H) mm: 4200*6000*3500

داخل

زمان ساخت: از سال 2016

مقدار: 3 مجموعه

مکان: چین

در مقایسه با تقاضای بزرگ بازار، بهره وری سیستم دسته پایین است؛ما اختصاص داده شده توسعه سیستم اسپترینگ In-line (در ادامه اسپترینگ خط رسوب) با دستگاه های بارگذاری / تخلیه خودکار روباتهرکس که علاقه مند به این سیستم باشد، لطفاً برای اطلاعات بیشتر با تکنسین ما تماس بگیرید.